12月29日信息，据国外媒体报导，阿斯麦是全世界现阶段唯一能生产制造
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11月13日信息，据海外新闻媒体，在5nm、6nm加工工艺规模性建成投产、第二代5nm工艺将要建成投产的状况下，处理芯片代工商局台积电对
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ASML（荷兰阿斯麦）正抓紧研制其下一代高NA（0.55数值孔径）的EUV
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为了追赶台积电，很显然三星也在努力的采购ASML的最新一代光刻机，而花费也是巨大的。据韩国媒体报道称，三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA……
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位于爱尔兰莱克斯利普的IntelFab34晶圆厂，投资70亿美元，迎来了一个重要时刻：光刻胶轨迹慢慢进入工厂，这也是工厂的第一个巨型芯片制造工具。该设备来自英特尔的俄勒冈州工厂，并飞越大西洋……
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一台单价26亿元，这是目前最强的光刻机，而最先进工艺离开它，几乎没办法继续下去。据供应链最新消息，TSMC的目标是在2025年量产其2纳米（nm）半导体制造工艺。台积电目前正准备加大其3nm……
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EUV光刻工艺除了需要EUV光刻机之外，也需要配套的EUV光刻胶，目前这一市场也主要被日本厂商垄断，现在三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶，已经通过验证。东进半导体19日宣布，……
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1月2日消息，据九派新闻报道，浙江舟山赵女士在客厅放了一台紫外线消毒灯，每天消毒一个多小时，这期间家人时不时去客厅来回走动。到了晚上，全家人都感觉眼睛红肿有异物感，并伴有流泪、畏光、刺痛睁不……
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3月9日消息，近日上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告，披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新进展。上海新阳半导体材料股份有限公司（以下简称“公司”）自立项开发 193nm……
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当ASML的EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候，美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破，Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，这种芯片可用……
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