无需EUV光刻机 我国首条光子芯片产线明年建成：1000倍性能提升
除了硅基芯片之外，光子芯片也是未来的一大重点，其原理跟硅芯片不同，运算速度可提升1000倍以上，而且不依赖先进的光刻机，比如EUV光刻机，因此是各国争相发展的新一代信息科技。来自《北京日报》……
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透明度达65%以上：京东方成功研发MLED“透视屏”
今天，京东方宣布，在LED透明显示领域获得了重要进展，研发出了一款拥有超高透过率的主动式驱动MLED透明显示产品。据京东方介绍，在这块屏幕上，研发团队成功攻克透明像素结构设计、高开口率背板等……
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佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机：性能大增
12月7日，日本佳能宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。据了解，在半导体芯片的制造工艺中，光刻机……
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消息称美芯片巨头Marvell撤出中国 研发团队全部被裁：越南成立新中心
据外媒报道，美国美满电子科技公司（Marvell）宣布在越南胡志明市成立“世界领先”的集成电路设计中心。报道称，该中心的前身是位于胡志明市第七郡新顺出口加工区的美满（越南）技术有限责任公司。……
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