佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机：性能大增
12月7日，日本佳能宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。据了解，在半导体芯片的制造工艺中，光刻机……
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消息称美芯片巨头Marvell撤出中国 研发团队全部被裁：越南成立新中心
据外媒报道，美国美满电子科技公司（Marvell）宣布在越南胡志明市成立“世界领先”的集成
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