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上海微电子:中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户
上海微电子:中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户

2月7日,2月7日,上海微电子举行首台2.5d/3d高级包装光刻机交付仪式,标志着中国首台2.5d/3d高级包装光刻机正式交付客户。去年9月18日,上海微电子召开新产品发布会,宣布推出新一代……

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国产芯片再遭打压!美国无理施压荷兰ASML:过气光刻机也不能卖
国产芯片再遭打压!美国无理施压荷兰ASML:过气光刻机也不能卖

国内自主芯片产业,刚刚迎来一个坏消息:美国再次向荷兰施压,阻挠芯片光刻机生产商ASML向中国出口光刻机。这一次还不只最先进的设备,还包括了上一代采用DUV技术的光刻机,其制造能力最高可以生产……

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佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机:性能大增
佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机:性能大增

12月7日,日本佳能宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。据了解,在半导体芯片的制造工艺中,光刻机……

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只知道ASML光刻机就低估了:它手里还有两大秘密武器
只知道ASML光刻机就低估了:它手里还有两大秘密武器

在谈到ASML时,大家的第一印象是这是一家领先的光刻机供应商。诚然,在媒体过去多年的科普下,大家对这家荷兰半导体设备制造商有了广泛的了解。光刻机对信息时代发展起到的举足轻重的作用,也让大家更……

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2个硅原子宽度!美国造出0.7nm芯片:EUV光刻机都做不到
2个硅原子宽度!美国造出0.7nm芯片:EUV光刻机都做不到

当ASML的EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候,美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破,Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米,也就是0.7nm的芯片,这种芯片可用……

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阿斯麦高数值孔径极紫外光刻NXE:5000系列设计已基本完成
阿斯麦高数值孔径极紫外光刻NXE:5000系列设计已基本完成

12月29日信息,据国外媒体报导,阿斯麦是全世界现阶段唯一能生产制造极紫外光刻机的生产商,在发布TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C这2款极紫外光刻机以后,她们仍在产品研……

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10亿一台的EUV光刻机供不应求 ASML CEO获奖3500万
10亿一台的EUV光刻机供不应求 ASML CEO获奖3500万

在全球半导体公司中,荷兰的ASML公司并不是规模最大的,但它们已经掌握了主要的光刻市场。目前缺少10亿台EUV光刻机,其性能由红色变为紫色,这也使得ASML管理变得柔软。这位首席执行官去年获……

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0.768nm堪比两个硅原子!美国造出全球最高分辨率的光刻机
0.768nm堪比两个硅原子!美国造出全球最高分辨率的光刻机

众所周知,目前5nm及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的EUV光刻机,ASML是全球唯一的供应商。更为尖端2nm制程的则需要用到ASML新一代0.55 NA EUV光刻机,售价或高……

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打破日本垄断 三星与韩国厂商合作开发成功EUV光刻胶
打破日本垄断 三星与韩国厂商合作开发成功EUV光刻胶

EUV光刻工艺除了需要EUV光刻机之外,也需要配套的EUV光刻胶,目前这一市场也主要被日本厂商垄断,现在三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶,已经通过验证。东进半导体19日宣布,……

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无需EUV光刻机 我国首条光子芯片产线明年建成:1000倍性能提升
无需EUV光刻机 我国首条光子芯片产线明年建成:1000倍性能提升

除了硅基芯片之外,光子芯片也是未来的一大重点,其原理跟硅芯片不同,运算速度可提升1000倍以上,而且不依赖先进的光刻机,比如EUV光刻机,因此是各国争相发展的新一代信息科技。来自《北京日报》……

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