日耗电3万度 EUV光刻机要关机省电?台积电回应了
日耗电3万度 EUV光刻机要关机省电?台积电回应了

此前有消息称由于先进工艺产能过剩,台积电计划今年底将部分EUV光刻机关机,以便节省电费支出,台积电日前也回应了,表示不评论市场传闻。台积电称,本公司针对机台设备皆有年度规划,并依循计划,在不……

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科技强国当今我国与美国光刻机的差距。
科技强国当今我国与美国光刻机的差距。

据一带一路国际性掌握很多人都感觉是大家光刻机的发展很晚,才造成 今日落伍的局势。殊不知很多人不清楚的是,在我国实际上在很早以前就开始了光刻机技术性的发展趋势,并且大家那时候的光刻机技术性并不……

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ASML拼命研制的新款高NA EUV光刻机:或是最后一代
ASML拼命研制的新款高NA EUV光刻机:或是最后一代

ASML一直处于高度戒备状态。去年,该公司两次提高了生产目标:它希望到 2025 年出货约 600 台 DUV 和 90 台 EUV 光刻机,而去年分别为不到 200 台和 35 台。ASM……

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上海新阳半导体收到ASML-1400光刻机 将用于研发193nm ArF光刻胶
上海新阳半导体收到ASML-1400光刻机 将用于研发193nm ArF光刻胶

3月9日消息,近日上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告,披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新进展。上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司”)自立项开发 193nm……

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EUV光刻机日耗电3万度 电费压力大:台积电回应电价上涨
EUV光刻机日耗电3万度 电费压力大:台积电回应电价上涨

半导体制造虽然是高科技行业,但同时也是高能耗行业,需要使用大量淡水及电力,其中电费已经是晶圆厂的重要成本之一,EUV光刻机每日耗电3万度,电价高低都是晶圆厂非常关注的。日前台湾电力公司传出了……

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摩尔定律不死 台积电已在谋划1nm工艺:下代EUV光刻机是关键
摩尔定律不死 台积电已在谋划1nm工艺:下代EUV光刻机是关键

在先进工艺上,台积电今年底量产3nm工艺,2025年则是量产2nm工艺,这一代会开始使用GAA晶体管,放弃现在的FinFET晶体管技术。再往后呢?2nm之后是1.4nm工艺,Intel、台积……

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国产芯片再遭打压!美国无理施压荷兰ASML:过气光刻机也不能卖
国产芯片再遭打压!美国无理施压荷兰ASML:过气光刻机也不能卖

国内自主芯片产业,刚刚迎来一个坏消息:美国再次向荷兰施压,阻挠芯片光刻机生产商ASML向中国出口光刻机。这一次还不只最先进的设备,还包括了上一代采用DUV技术的光刻机,其制造能力最高可以生产……

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下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商
下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商

1月25日,ASML新一代光刻机被要求投资EXE:5200是否在使用聚光科技的产品时,聚光科技回应称,该公司是a公司的重要供应商,是ASML公司的核心供应商。聚光科技表示,公司为半导体光刻应……

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上海微电子:中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户
上海微电子:中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户

2月7日,2月7日,上海微电子举行首台2.5d/3d高级包装光刻机交付仪式,标志着中国首台2.5d/3d高级包装光刻机正式交付客户。去年9月18日,上海微电子召开新产品发布会,宣布推出新一代……

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佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机:性能大增
佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机:性能大增

12月7日,日本佳能宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。据了解,在半导体芯片的制造工艺中,光刻机……

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