在5nm工艺之后，台积电正在全力冲刺到3nm，并准备了多个版本，至少包括N3、n3e和n3b。

N3是一个传统的标准版本，n3e应该得到增强。它将在2024年大规模生产，现在，它已经成为一个简化版本，减少了规格，好消息是进展提前了。

据报道,，n3e工艺将使用更少的EUV光刻层，将从25层减少到21层。它投产难度小，产量高，成本低。然而，晶体管密度将比N3版本低8%左右，比N5版本高60%。

相比之下，N3的晶体管密度比N5高70%。

n3e工艺设计将于本月底完成，生产时间将从2023年第三季度提前至2023年第二季度。

N3进程也计划在2023年进行，但不清楚是哪个季度。

至于n3b版本，我们只知道它是在N3的基础上对特定用户的改进，但我们不知道其他。

© 本文系原创，著作权归：芦虎导航官网。如需转载，请署名并注明出处：https://www.luhu.co/article/000000000016515.shtml